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CIF進(jìn)口的紫外臭氧清洗機(jī)

更新時(shí)間:2018-05-15       點(diǎn)擊次數(shù):3712

美國BIOFORCE紫外臭氧清洗機(jī)(UVO)入駐山東大學(xué)

  美國Biofore公司的ProCleaner ™的產(chǎn)品線提供非常有競爭力的價(jià)位,并給研究者提供更多的選擇機(jī)會(huì)。該P(yáng)roCleaner ™裝置的用途是消除分子程度的污染,使探針和表面盡可能清潔。

應(yīng)用領(lǐng)域
?預(yù)處理表面圖案化工具
?清潔硅和氮化硅探針
?晶圓清洗
?表面氧化及制備
?提高表面親水性
?表面清洗
?制備薄膜沉積
?紫外光固化
?表面圖案化
?清洗光學(xué)鏡頭
?粘接硅橡膠
?表面消毒
?清潔MEMS器件

可處理材料表面
?氮化硅
? 金屬
?玻璃
?云母
?石英
?陶瓷
?聚合物 

產(chǎn)品特點(diǎn)
?高強(qiáng)度UV燈源,持續(xù)的清除樣品表面有機(jī)污染物;
?成本低、簡單、經(jīng)濟(jì)、快速;
?結(jié)構(gòu)緊湊(體積?。?;
?抽屜式樣品臺;
?多功能樣品定位支架
?安全聯(lián)鎖和指示燈
?樣品清洗無需溶劑;
?超潔凈表面;
?室溫操作。

技術(shù)參數(shù):
型號:UV Ozone Cleaner–ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner–ProCleaner™
樣品臺尺寸:100mmx125mm;
zui大處理樣品高25mm;
適用電壓:230V,0.6A,50Hz(110V,1.2A,60Hz);
重量15 lbs。

英國Ossila紫外臭氧清洗機(jī)入駐中科院金屬研究所

英國Ossila公司提供的紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!
目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。
表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面。
表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,在將有機(jī)物分解的同時(shí),254nm波長的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤性。
主要應(yīng)用:
石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。
微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤,光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。
精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。
在膠粘接或是印刷之前,對高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。
科研過程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學(xué)等。

產(chǎn)品特點(diǎn)
成本低;
?120x120mm樣品臺;
?zui大處理樣品高14mm;
?抽屜式樣品臺,簡單方便;                                  
?樣品臺自動(dòng)安全開關(guān),打開UV自動(dòng)關(guān)閉,防止對人身傷害;     UVO顯示器
?LCD屏顯示“已用時(shí)間”和“剩余時(shí)間”;
?60分鐘定時(shí)器;
?高強(qiáng)度UV燈源;
?可控溫的樣品臺;

?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。

       

技術(shù)參數(shù)

在紫外線臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300納米二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。

華儀行(北京)科技有限公司
地址:北京市豐臺區(qū)科興路7號國際企業(yè)孵化中心301室
郵箱:cif_lab@163.com
傳真:86-010-63752028
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